第1650章 7nm时代，我们来了！

第1650章 7nm时代，我们来了！ (第1/2页)

早春的冷风吹散了车上讨论带来的灼热感。
　　
　　栾文杰深吸一口气，强迫自己从“聚变示范堆”这个过于超前的震撼性目标中抽离出来。
　　
　　眼前，是实实在在、触手可及的里程碑——华芯国际津门海河基地。
　　
　　常浩南上次来访还是近两年前，那时ArF1800光刻机连八字还没一撇，整个海河基地都在研究多重曝光技术，以便用DUV光源造出高制程芯片。
　　
　　但如今，那台承载着无数期望的“国之重器”，已经稳稳地安放在了生产线的心脏位置。
　　
　　基地负责人黄炜和华芯国际技术总监吴明翰带着热情而克制的笑容迎了上来，身后是一众基地管理和技术骨干。
　　
　　“栾主任，常院士，向总，一路辛苦了！欢迎莅临指导！”黄炜的声音洪亮有力，说话间往前迈出的几步近乎带着雀跃。
　　
　　“总算等到这一天了，就盼着各位领导来见证。”吴明翰倒是表现的相对内敛，只不过在握手的时候晃动幅度和力度也比往常大了不少。
　　
　　显然，他们的喜悦是发自内心的。
　　
　　即便在寒暄时，嘴角的弧度也几乎压不下去。
　　
　　简短的欢迎仪式后，一行人被引导进入更衣区。
　　
　　繁琐的无尘服穿戴程序一丝不苟：脱下外套，换上连体洁净服，戴上头套、口罩、护目镜，套上鞋套。
　　
　　接着是严格的风淋，强劲的气流吹走所有可能的微粒。
　　
　　最后经过一道气闸门，正式踏入生产区核心地带——
　　
　　恒定的温度，适宜的湿度，Class100级别的无尘超净间。
　　
　　柔和的顶光均匀洒下，照亮了排列整齐的自动化设备和纵横交错的物料传输线。
　　
　　穿着同样白色无尘服的技术人员如同精密仪器的一部分，在各自的岗位上专注操作或监控数据，一切井然有序，只有轻微的蜂鸣和气流声。
　　
　　几乎是刚一进门，众人的目光就不约而同地被吸引到生产区域中心位置。
　　
　　那里摆放着一台体积明显更小的光刻设备。
　　
　　稍微走近几步之后，就能看到银灰色的外壳上，“ArF1800”的标识清晰醒目。
　　
　　此刻，一群技术人员正围拢在它的操作台和监控屏幕前，进行着流片前的最后确认。
　　
　　头顶高处挂着一个标识牌：F-3产线。
　　
　　“就是它了。”吴明翰的声音带着自豪引着众人走到一个安全的观察距离，“ArF1800，我们自己的深紫外光刻机。”
　　
　　他指向设备，开始介绍，语速平稳却透着自信：“这台机器，光源、掩膜台、对准系统、控制系统，都充分继承了前代1500型和1200型的成熟设计理念和操作逻辑，并做了大量优化。尤其是光源的稳定性和对准精度，提升显著。”
　　
　　他眼神中带着感激地看了一眼常浩南：“我们的工程师团队全程参与了上沪微电子的组装调试，对它的‘脾气’摸得很透所以这次产线升级和人员培训非常顺利，也比预期更快地克服了最后的一些技术问题。”
　　
　　就在这时，一盒承载着希望的硅晶圆基底，通过自动物料传输系统（AMHS）的机械臂，平稳地运送到了F-3产线的起始工位。
　　
　　常浩南还记得自己上次来到这里时的场景。
　　
　　这些晶圆比他之前看到的要大上一圈。
　　
　　“这是12英寸晶圆吧……”常浩南问道，“上次你们跟我提过的新硅片厂，已经投产了？”
　　
　　“常院士好眼力！”
　　
　　吴明翰赞道，脸上笑容更盛：
　　
　　“ArF1800的高分辨率和高生产效率给我们省下了不少资源和精力，所以这次我们同步升级了F-3产线的晶圆处理系统，全面兼容12英寸晶圆。大尺寸晶圆能显著提升单次生产的芯片数量，降低成本，这也是国际主流的方向。”
　　
　　众人的视线随着逐个铺展开来的晶圆在整条产线上不断转移着——
　　
　　晶圆首先进入全自动清洗和前烘设备，去除表面污染物和水分。
　　
　　接着是氧化炉，在晶圆表面生长一层薄而均匀的二氧化硅。
　　
　　随后，晶圆被送入关键的匀胶机。
　　
　　高速旋转中，粘稠的光刻胶被精准地涂覆在晶圆表面，形成一层厚度仅有微米级别的均匀薄膜，接着前烘氧化进一步去除溶剂，固化胶膜。
　　
　　对于华芯国际而言，这些步骤都已经相当成熟。
　　
　　

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