第221章 长天光学突破

第221章 长天光学突破 (第1/2页)

大半年的时间转瞬即逝。
　　
　　郑东新区，长天光学实验室地下核心实验区。
　　
　　穿过三道除尘风淋室，实验室内常年保持着恒温恒湿的严苛环境。
　　
　　王立国穿着厚重的全封闭防静电服，虽然隔着口罩，但依然能看出他眼底布满血丝的疲惫，以及根本按捺不住的狂喜。
　　
　　在他面前的超精密减振台上，安静地放置着一个高达近一米、重达数百公斤的金属圆筒。
　　
　　这并不是什么普通的金属疙瘩，而是代表着人类光学制造工业皇冠上的明珠——光刻机投影物镜系统。
　　
　　“许总，我们成了。而且，比国家02专项原定的节点，还要快得多！”
　　
　　王立国深吸了一口气，对着身旁同样穿着防静电服的许晨说道，声音因为过度兴奋而有些沙哑。
　　
　　许晨看着眼前的金属圆筒，眼神明亮：“王院士，这就是咱们这大半年来，日夜不停加工出来的心血？具体参数走到哪一步了？”
　　
　　王立国点了点头，拍了拍金属圆筒汇报道：“许总，其实国家在光刻机研发上早就布局了。按照原本的进度，国内这两年也就是勉强摸到90纳米节点的门槛，而且良品率和稳定性一言难尽。”
　　
　　“但是，您弄回来的那台汉斯原厂极精密设备，加上天宇不计成本的资金砸下去，彻底打破了物理加工的瓶颈！目前摆在您面前的，是我们打磨出的国内最高水平的ArF（氟化氩）干式光刻机投影物镜系统。它的数值孔径（NA），硬生生被我们推到了0.85！”
　　
　　看到随行的天宇高管面露疑惑，王立国主动用通俗易懂的话解释起来。
　　
　　“各位，光刻机的工作原理，就像是我们小时候玩的幻灯片投影仪。咱们的芯片图纸就画在幻灯片上，光线穿过这几十片镜片，把庞大的图纸成比例缩小，精准地印在硅晶圆上。”
　　
　　“如果说造航母是宏观工业的巅峰，那这玩意儿就是微观工业的神迹。想象一下，你要把整个帝都市的详细交通地图，一比一不差分毫地画在一粒大米上。这套物镜，就是那支用来画图的笔。”
　　
　　王立国指着金属筒：“因为图纸缩得太小了，光线穿过玻璃时会发生畸变。这套NA0.85的镜头里，每一片镜片的表面平整度误差，被我们磨到了亚纳米级别！什么概念？如果把这片镜片放大到整个地球那么大，它表面的起伏高低，连一根头发丝的厚度都不到！”
　　
　　随行的高管们听得倒吸了一口凉气。
　　
　　王立国继续说道：“干式光刻机的物理极限NA是0.93。咱们这套NA0.85的镜头，已经完全能够支撑65纳米工艺节点的芯片量产！如果配合上芯片厂的多重曝光技术，它甚至能去摸一摸45纳米的门槛！这比国家原定的90纳米目标，整整跨越了一个大台阶！”
　　
　　“好！太好了！”许晨拍了拍王立国的手臂，“能把NA0.85的干式物镜做出来，这就是咱们的入场券。先把65纳米的底子夯实，下一步咱们直接加水，去搞NA1.35的浸没式物镜，向28纳米冲刺！”
　　
　　许晨转头看向身后的陈立峰：“给王院士团队的所有研发人员发奖金！从晨宇资本账户里拨五千万出来，作为这次攻克物镜系统的专项奖励！”
　　
　　

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